Helvetica Chimica Acta 誌に論文が掲載されました
- PhotoBiology
- 2020年9月27日
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更新日:2021年9月22日
Bode先生(ITbM)との共同研究成果がHelvetica Chimica Acta 誌に論文が掲載されました。
Post-assembly Photomasking of Potassium Acyltrifluoroborates (KAT) for Two-Photon 3D Patterning of PEG-Hydrogels
Haewon Song, Dino Wu, Dimitry Mazunin, Sizhou M. Liu, Yoshikatsu Sato, Nicolas Broguiere, Marcy Zenobi‐Wong, Jeffrey W. Bode*
Helvetia Chimica Acta (2020)

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